大陆抱怨在光刻机领域与西方有二十年差距而吾之原理缩小这个差距
作者：仝天+-
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大陆抱怨在光刻机领域与西方有二十年差距而吾之原理缩小这个差距
仝天
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甚至使用吾之原理能够在及短的时间内超越西方或领先西方三年亦是可能的。
吾在上述论谈上，提到三个方面，三色版光源，中神通光刻，立体EDA编译，即移E动三D芯片设计在Z轴线上进行N次缩小或放大，整个过程，若悟通，所光刻出来的芯片即使是90纳米或28纳米光刻机光刻的芯片，亦等效0.7纳米芯片甚至远超。
而且，使用西方EUV光刻出来的芯片都是单一时+空+质，想要运行这样的芯片，非常耗电，其次会导致芯片设计过度复杂，没法设计出AGI，即通用人工智能，所谓"通"，即连"通"，在一块单一平面芯片上，即使生产出0.7nm的芯片，亦没法顺畅连通，因为这样的平面芯片太复制了，而使用吾之原理，设计和光刻出来的芯片，其连通过程就是在不同的时空质里面进行信息穿越连"通"。
而使用吾之原理或论谈设计出来的芯片，简单易懂，易操作，损电，降热等等，百分之百符合AGI和ASI的要求，而且，光刻这样的芯片，以大陆自己如今设计或生产出来的光刻机就能够达到或生产出高性能的AGI或ASI芯片。
所谓"通"用，另一个要求就是跨学科使用，猪尾肉人自己所定义的学科专有名词限定了肉人的思维或想象能力，这就是隔行如隔山，而使用吾之论谈设计出来的AGI或ASI却能够彻底解决这个问题，想要解决AGI的问题，走吾论谈之路就是捷径，牛皮不是吹的，火车不是推的，所以，希望习总火速将论谈费支付系统给吾送来或邮寄过来。