日本靠它号令全球
东京应化工业（TOK）的企业历史，堪称是一部日本化学工业的进化缩影。
东京应化工业（TOK）不是三菱化学、巴斯夫那种规模庞大的综合化工巨头，却长年站在半导体材料最关键的位置之一，目前是全球KrF光阻市占第一的业者，也是主要晶圆厂的重要光阻供应商。但这家公司的起点，并不是半导体，而是煤矿工人头上的安全灯。
TOK创办人向井繁正早在1934年便成功精制出高纯度苛性钾（氢氧化钾），用于煤矿工人所戴的安全灯之所需的碱性蓄电池，之后在1936年成立东京应化研究所，于1940年再改组为东京应化工业。
但TOK令人关注的并不只有技术，而是在很早之前就做出一个看似保守、后来却极为关键的选择：不跟大型化工公司抢大市场。当时，TOK做出这项选择时，整个光阻市场一年产值不过约60亿日圆，但这种刻意选择“窄市场”的策略，造就了TOK的优势，拿下全球光阻市场领先市占率，营业利益率维持在20%以上的高水准
根据日本企业历史与策略分析网站The Shashi指出，当时有人问TOK为何不跨入PVC等大型化工市场，公司认为以自身规模进场，很难长期与大型资本抗衡，其发展策略并不是从自身优势出发，而是建立在对“弱势”的精准计算上。不过，TOK并非从此只做光阻产品，之后还进军电子材料、制程设备以及印刷材料。
专家指出，真正改变这家公司命运，是在1968年推出半导体用负型光阻OMR-81，并于1972年开发出日本第一款半导体正型光阻OFPR-2。随着半导体微影技术从G-line、I-line 演进至KrF、ArF 乃至最先进的EUV（极紫外光），TOK 始终跟随晶圆代工大厂的制程节点同步开发。
分析师指出，TOK从一家地方化学厂成长为全球半导体光阻龙头，关键在于其“高纯度精制技术”与“专注高附加价值市场”的策略。
手握全球近25%光阻市占率如何让芯片厂绕不开
若只看2370亿日圆营收，TOK或许只是一家中型日本化学公司，很容易低估它在半导体产业的份量，但从财报的产品结构与全球市占来看，却可看出这家公司在全球半导体产业的份量。据悉，TOK半导体巨头深度合作，为全球少数能稳健量产先进EUV光阻剂的厂商之一，英特尔甚至曾把TOK称为“leading edge photoresist technology”的策略供应商。
TOK最新公布的2025年度财报显示，全年合并营收2370.29亿日圆、年增17.9%，营业利益则达473.86亿日圆、大增43.2%，归属母公司股东净利333.45亿日圆、年增47%。
资料显示，TOK营业利益大幅成长，主要受惠于先进材料等高附加价值产品销售增加。进一步拆开财报，高纯度化学品营收1094亿日圆、年增19.6%；其中，半导体前段制程用光阻占电子功能材料销售约70%；包括ArF、EUV光阻在内的先进材料，2025年销售更较前一年成长20%。
至2025年底，TOK全球员工只有2132人，却掌握全球近4分之一的光阻市占率，背后靠的不只是配方，而是两项累积数十年的技术底气，包括微细加工与高纯度化。专家表示，TOK的核心能力之一的微细加工技术，是目前世界最高水准的微细加工，技术所触及的是奈米尺度的世界。
TOK更以“1奈米约为头发直径的10万分之一”形容其微细加工所面对的尺度。业内人士称，一家公司真正的竞争力，并不是某一款明星产品，而是客户的下一个制程节点出现时，仍能跟着站在最前线。这也是为什么衡量TOK，不能只用营收规模来看。
依TOK引用富士Chimera总研《2026年创新／注目半导体相关市场现况与未来展望》，以2025年预估出货量计算，TOK全球半导体光阻市占达24.7%、排名第一；分产品来看，EUV、KrF及g／i-Line光阻都是全球第一，ArF则排名第四。
据悉，在半导体制造的微影（Photolithography）工序中，光阻剂的作用如同底片上的感光涂层，晶圆进入微影制程后，必须先涂上感光材料，再透过曝光与显影留下电路图形，之后才能进一步进行图形转移等制程；随着制程持续微缩，光阻对解析能力、纯度与缺陷控制的要求也同步升高。
没有高纯度、均匀度极高的光阻剂，这些价值不斐的微影设备（EUV机台）也无法将电路图案精准印在晶圆上。
东京应化的核心产品为光阻剂，是半导体制造不可或缺的感光性化学材料。 （欧新社资料照）
日本材料商分两条路抢进台湾
台湾是全球半导体制造重镇，TOK早在1998年便与长春石化合资成立“台湾东应化”，持续强化在台制造、销售与客户支援能力。随着台湾半导体市场需求扩大，双方近年更重新调整制造分工，以最佳化在地供应链。
分析师指出，TOK与竞争对手JSR近年的台湾布局，刚好呈现两种不同的“在地化”路线。 TOK早在1998年就与长春石化合资成立台湾东应化，2014年铜锣厂开始运作；但到了2023年，台湾东应化反而把苗栗厂转让给长春石化，采以TOK技术生产显影剂、稀释剂或剥离剂等附属品，部分产品（如显影液）是由长春石化受托代工生产。
台湾东应化本身设有铜锣厂，为重要的高科技电子化学品在地生产与研发基地之一，主要负责半导体及LCD 制程用化学材料的销售、品质管理、客户支援及新市场开拓，发挥就近服务台湾在地半导体大厂的在地化优势。
专家指出，相较于TOK采用“资产转让、高阶留己、基础委外/合资”的灵活轻资产模式，其主要竞争对手的日本国家队JSR在台湾的落地策略则呈现出另一种地缘供应链深化模式。
据日媒报道，JSR预计投入数千万美元，在台兴建首座半导体材料生产基地，最快2028年启用，并供应台积电光阻。据悉，JSR原本在竹北已有负责半导体材料销售、行销与研发的公司，如今再补上制造功能，选择与李长荣化工及通路龙头华立共同合作，成立“台湾捷时雅先进制造”（JSR Micro Advanced Manufacturing Taiwan）。
光阻剂是半导体晶圆电路成像的关键材料。依2025年销售数据，JSR全球光阻市占约19%、排名第二，日本企业合计掌握约80%市场。
对于JSR来台设生产基地，至于背后是不是台积电推了一把？台媒指出，JSR这次改变态度，“是因为台积电要求”，并表示先进制程愈复杂，材料供应商越需要靠近客户，以加快共同开发。
专家指出，TOK是重新切割制造与客户服务分工，JSR则新补上台湾制造基地，两种策略也反映日本材料商面对全球供应链重组及客户在地供应需求时的不同选择，但结果却都呈现日本材料企业与台湾半导体制造供应链的连结进一步加深。
“2.38%”的制霸力量竟成全球半导体共同标准
半导体产业中最可怕的商业护城河，不是卖产品，而是“定义规格”。业界人士指出，TOK最厉害的并不只是卖材料、也不是市占率，而是将自家规格变成全球产业标准。在TOK的经营轨迹中，一个不起眼的数字“2.38%”，正好说明了这件事。
随着积体电路持续微缩，TOK在1972年推出正型光阻OFPR-2后，也同步投入显影液开发，1975年推出无金属显影液NMD-3。根据TOK公司史，NMD-3采用的2.38%浓度后来成为全球标准浓度；直到今天，TOK America仍销售2.38%的NMD-3。
“2.38%”的影响也不只停留在TOK自己的产品。光微影专业文献指出，0.26N、也就是2.38 wt%的TMAH已成为业界标准，多数光阻也是以这个浓度为前提设计；IBM Research在EUV研究中同样将0.26N TMAH称为化学增幅型光阻长期沿用的业界标准。换句话说，2.38%已从一项显影液规格，演变成光阻材料与制程开发广泛使用的共同基准。
更有意思的是，TOK把产品做到业界广泛采用的规格并非只有一次。 1979年推出的OFPR-800被TOK公司史称为g-Line正型光阻的产业标准；1997年开发的KrF光阻，也获多家半导体制造商采用，TOK称其成为全球标准产品。
专家指出，TOK真正难复制的地方，不只是光阻市占率领先，而是长期累积下来的材料规格与制程适配能力。这正是TOK 历经数十年产业变迁，始终屹立于供应链顶端的真正原因。
“2.38%”数字，让TOK在半导体产业领域，从1930年代一路领先到EUV时代。