中国“小兵”横空出世 西方封锁破功？
中国自产DUV称今年要交付5台
媒体日前揭露，中国已开始生产自主研发的深紫外光（DUV）微影曝光机，这种关键的芯片制造工具，长期以来一直由荷兰大厂艾司摩尔（ASML）主导。中国国产的DUV预计将在今年交付给中国领先的芯片制造商，消息一出，引发全球关注。
知情人士表示，这家位于上海的国有企业从多家中企调走了DUV研发人才，包括上海微电子装备集团（SMEE）与上海宇量昇科技公司的团队。自2025年9月以来，中国芯片大厂中芯就一直在测试宇量昇的浸润式DUV设备。
上海名不见经传公司生产出DUV
《路透》揭露，目前主导中国国产DUV的是一家叫做上海爱晟纳电子科技集团（Aishengna）的公司，纪录显示，这家公司成立于2023年8月，注册资本额70亿人民币，由上海电气控股以及上海国际信托公司的子公司两家中国国有股东共同出资。
这家公司的公开资讯非常少，既没有架设官方网站，在这之前也没有揭露过任何营运的公开资讯。
这是北京旨在减少对外国技术依赖方面取得的关键进展，这家公司整合了上海微电子装备集团和上海宇量昇科技的团队，这两家公司都深度参与北京的半导体自主计划。其中，宇量昇是华为投资的设备制造商新凯来（SiCarrier）的关系企业。公司招聘的纪录显示，爱晟纳与宇量昇在上海共用一个地址。
美国禁止中国取得ASML设备
自2019年以来，美国一直禁止艾司摩尔向中国出售极紫外光（EUV）曝光设备，近期更进一步将限制措施扩大到相对没那么先进的DUV设备上。
美国会已通过法案，进一步扩大半导体制造设备出口限制，包括中芯国际、华虹、长鑫存储、华为和长江存储都是受到限制的实体。这项法案的浸润式DUV条款涵盖了服务和技术援助，不仅仅是限制芯产品出口，这将使整个管制扩大到已经在中国晶圆厂运作的设备。
随著中国国产DUV进入量产，可能为中国芯片制造商提供新的替代方案，这是中国半导体制造商在受到限制后，可以获得的最先进曝光技术。据传，中国现在也正自主研发EUV设备，不过，目前仍处于原型阶段，距离真正投入使用还需要数年的时间。
中国推出国产DUV，这是北京旨在减少对外国技术依赖方面取得的关键进展。（路透资料照）
摩根大通指中国制DUV难量产
中国DUV突破性的进展可能会在未来挑战艾司摩尔在中国市场的地位，但相关设备的性能和可靠性预计仍有一定的改进空间，因此，短期内艾司摩尔仍保持优势。
艾司摩尔预计在2026年交付130台浸润式DUV，与2025年持平。而今年中国市场约占艾司摩尔净销售额的20％，低于2025年的33％，主要受到主流逻辑芯片需求驱动。．
AI Futures Project在6月的一项独立分析则显示，中国的浸润式DUV恐怕要等到2030年代才能实现商业规模，艾司摩尔现在占了整体的98.7％市占。新设备的产线认证预估也需要数个月的时间，而且他们在性能和制造品质方面都逊于艾司摩尔的产品。
摩根大通分析师则指出，生产少量的DUV和量产在根本上是“不同的”，仅生产少量浸润式DUV设备与制造可以用来大量生产芯片的工具是两回事，对于后者，良率、叠对精度、产出量与数千片晶圆运作的可靠性才是关键。