中国声称突破“EUV关键技术”
自由时报 2025-01-17 23:32+-
目前先进制程使用的是极紫外光微影(EUV)技术,荷兰的艾司摩尔(ASML)是行业巨擘,市场由ASML掌握,EUV曝光机更是先进制程必备神器。
不过中国的哈尔滨工业大学(哈工大)近期宣布,成功研发出可提供13.5纳米极紫外光的技术,中国媒体认为,这部份解决了中国国产EUV曝光机制造中的光源问题,对于中国EUV光刻机曝光机的制造技术推进意义重大。
报道更称,哈工大这次突破的是光源技术波长是13.5纳米,采用粒子加速辐射取得EUV光源,与ASML采用美国光源技术,还需要德国莱卡的透镜技术,才能取得EUV不同,认为哈工大的技术就是一种技术创新突破。
不过报道也称,若要生产EUV曝光机,不仅需要先进的极紫外光源技术,还需要物镜系统、双晶圆平台和控制系统等关键技术。 而这4大技术组成了高端EUV曝光机的护城河,非常难超越和颠覆。